cas 7440-05-3 pd nanopowder 초 미세 팔라듐 촉매제
크기 : 20-30nm 순도 : 99. 95 % CAS 번호 : 7440-05-3 에니 넥 번호. : 231-115-6 외관 : 흑색 화약 모양 : 구형
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크기 : 20-30nm 순도 : 99. 95 % CAS 번호 : 7440-05-3 에니 넥 번호. : 231-115-6 외관 : 흑색 화약 모양 : 구형
고객의 요구 사항에 따라 니오븀 규화물 분말의 다양한 크기의 제품을 공급할 수 있습니다. 크기 : 1-3um; 순도 : 99.5 %; 모양 : 과립 CAS 번호 : 12034-80-9; 에니 넥 번호. : 234-812-3
ni2si 입자, 99.5 % 순도, 입상 형태, 마이크로 전자 집적 회로, 니켈 실리사이드 필름 등에 사용됨 크기 : 1-10um; CAS 번호 : 12059-14-2; eninec 번호. : 235-033-1
첫 번째 단계 : 습윤 단계
기체 상 백색 실리카는 배럴에 천천히 첨가되고, 분산기는 저속 혼합이며, 속도는 약 100-300 rpm이며, 배럴이 완전히 흄드 실리카를 감싼 후 5-10 분 동안 분산되어 속도 등급을 높이고, 따라서 흄드 실리카의 흄 플라이 문제를 줄일 수 있습니다.
두 번째 단계 : 고속 탈 중앙화 단계
분산기의 속도는 1500-4500 rpm으로 조정되고 선형 속도는 15 m / s -20 / s입니다. 분산기 자체의 속도 제한과 수지 자체의 점도에 따라 30 ~ 60 분 동안 적절하게 조정 분산합니다. 결정규토분산완전하게 : 입자 나 흰 반점 없음, 더 높은 투명도, 안개 없음, 흰색 없음. 섬도 : 섬도 미터를 측정 할 수 있습니다.
주의 질문 :
흄드 실리카는 나노 규모의 제품이기 때문입니다. 평균 1 차 입자 크기는 7-16 nm이고 응집 된 입자 크기는 1-2 미크론 사이이며 분자 사이의 반 데르 발스 힘은 상대적으로 크고 보조제를 분산하기 가장 어렵습니다. 첫 번째 백색 가스 카본 블랙, 분산을 돕기 위해 분산제 또는 습윤제를 추가하기에 적합하므로 분산이 좋으며 다른 첨가제 및 충전제를 계속 분산시킵니다. 분산 공정은 흄드 실리카의 농축 효과로 인해 분산 장치를 만듭니다. 회전 과정으로 인해 상대적으로 큰 마찰이 발생하여 수지 시스템의 온도 또는 국부 온도가 나타날 수 있으므로 냉각 문제, 특히 에폭시 수지 시스템, 국부 고온이 쉽게 개방형 에폭시 또는 탄화로 이어질 수 있습니다. 다른 문제. 고속 분산 장비의 분산 능력은 상대적으로 제한적이며 미세한 경우 미세한 다음 3 롤 기계, 연삭기, 샌드 밀 등을 넘습니다. 최고급은 흄 수 있습니다실리카 분말0.5 미크론 이하로 분산됩니다.