이산화망간 , "과산화망간", "검정 산화망간",이라고도 하는 , 흑색 사방정계 결정 또는 갈색 흑색 분말,이며 많은 변형이 있습니다.. 물에 불용성, 질산, 찬 황산 및 아세트산, 차갑고 진한 염산에 용해되어 불안정한 연갈색-녹색 mncl4,을 생성하며 가열되고 진한 염산과 반응하여 염소를 방출합니다. 기체. 진한 황산과 반응하여 천천히 산소를 방출, 공기 중에서 600℃로 가열하면 H2O2 또는 H2C2O4. 존재하에서 묽은 황산 또는 질산에 용해될 수 있음, 방출 산소와 mn2o3,으로 변환되고 백색열일 때, mn3o4.로 변환하는 강력한 산화제이며 유기 물질 또는 황,과 같은 기타 산화성 물질,과 함께 가열하거나 문지르지 못합니다. 3 황화물, 인화물, 등. 자연계에 파이롤루사이트로 존재. 제조 방법: 망간을 가열하여 제조할 수 있음 장시간 동안 150-190 ℃에서 공기 중 질산염 결정.

1. 제조방법 전해 이산화망간 높은 압축 밀도
전해 이산화망간은 저렴하고 풍부한 재료, 방전 및 장기 저장 특성이 우수, 일반적으로 건전지 전지의 활물질로 사용됩니다. 예를 들어, 전해 이산화망간 알칼리성 1차 전지의 양극 재료로 사용. 전해 이산화망간은 일반적으로 황산망간과 황산의 산성 용액이 포함된 전기도금조에 직류를 통과시켜 제조됩니다..

전기도금 셀의 양극은 전해 이산화망간이 그 위에 증착된 티타늄 판을 포함할 수 있습니다.. 음극은 증착된 전해 이산화망간이 약 1mm의 두께에 도달할 때 흑연 또는 구리 또는 유사한 재료로 만들 수 있습니다. 약 75mm, 티타늄 판에서 외력,을 제거하고 최대 25-100mm 크기로 분쇄하여 추가 처리 망간 조각. 크기의 전해 이산화망간을 얻을 수 있습니다. 전해 이산화망간은 산성 수조에서 제조되기 때문에. 전해 이산화망간은 일반적으로 전해액의 세척 또는 부식성 처리가 필요하기 때문에 배터리 제조업체의 요구 사항을 충족하기 위해 분쇄 또는 분쇄 공정을 사용하여 전해 이산화망간 조각의 감소 산성욕의 잔류 산도를 중화시키는 이산화망간.

이 처리는 전해 이산화망간. 분쇄 단계 후에 중화 단계가 수행되는 경우 분쇄 전 또는 후에 수행될 수 있음, 전해 이산화망간 입자는 일반적으로 수산화나트륨이 첨가된 수용액에 현탁됨, 그리고 산성이 중화되면, 탈수가 수행되어 고체 전해질 이산화망간 입자에서 수용액을 분리합니다. 중화 단계 후에 얻은 물질을 최종 단계.에서 중화된 전해 이산화망간.이라고 합니다. 3 전해 이산화망간을 일정 크기로 건조.

예를 들어, 알칼리 갈바니 전지 적용의 경우, 건조 단계는 일반적으로 온화하여, 물리적인 흡수된 물을 남기며, 제품의 약 1중량%에서 약 3중량%를 구성할 수 있습니다. 생성된 재료 알카라인 1차 전지의 활물질. 배터리 제조업체는 아연 양극에 대한 알칼리 전지의 양극 활물질로 전해 이산화망간을 사용합니다.. 전해 이산화망간은 양극을 구성하는 다른 물질과 결합됩니다. 전구체 및 도구를 사용하여 압축. 미리 결정된 양의 배터리에 캡슐화된 전해 이산화망간의 양은 배터리 성능을 결정하는 중요한 요소입니다.. 전해 이산화망간 압축 밀도는 양을 예측하는 데 사용되는 매개변수입니다. 배터리에 장착할 수 있는 전해 이산화망간. 배터리 제조업체는 높은 압축 밀도를 선호합니다. 종단 체적은 전해 이산화망간이 더 조밀하게 압축될 때 더 나은 성능을 갖습니다..

2. 이산화망간 초음파 세척 방법
전해 이산화망간은 배터리 산업의 발전과 함께. 아연-망간 배터리를 위한 최고의 감극 재료입니다, 배터리 제조업체는 전해 이산화망간 재료에 대한 점점 더 높은 요구 사항을 가지고 있습니다, 그 중 전해 이산화망간 방전 성능 이를 위해 최우선 과제. 무겁다., 전해 제조 업체와 많은 과학 연구 부서는 전해 공정 및 후처리 공정에서 보다 합리적인 공정을 찾기 위해 많은 노력을 투자하여 전해 이산화망간을 생산합니다. 고품질. 특히 제품의 세척 과정.

과거, 산업적 생산 방법은 뜨거운 물을 사용, 오랜 시간 저어 담그고, 여러 번 반복 세척,한 다음 여과. 또한, 세척 효과를 사용하는 것이었습니다. 불순물이 좋지 않음. 기사 "무은 알칼리 망간 배터리용 전해 이산화망간 생산 공정"("배터리" 간행물, 2003, 33(2), p. 102, 저작 xiao zheng), 고압을 포함하는 고압 증기 세척 방법.을 사용할 수 있다고 제안, 이산화망간 처리 장비, 및 공정이 복잡. 본 발명의 목적은 불순물 제거 효과, 짧은 생산 시간,을 갖는 이산화망간,의 초음파 세척 방법을 제공하는 것이다, 고효율, 이산화망간.의 방전 성능을 크게 향상시킬 수 있습니다.

위의 목적을 달성하기 위해, CN03156025.3은 다음 기술 계획을 채택합니다. 이산화망간,의 초음파 세척 방법은 다음 단계를 포함합니다.

(1), 산업용 이산화망간과 물을 혼합하여 이산화망간 및 물과 혼합, 히터 및 교반기가 제공된 용기에 넣습니다. 또는, 히터와 교반기가 제공된 용기에서 , 산업용 이산화망간과 물을 혼합하여 이산화망간과 물의 혼합물을 제조하고;

(2), 용기를 초음파 장비의 초음파 탱크에 다시 넣고, 초음파 탱크에 물을 넣습니다.

(3), 히터를 사용하여 가열, 및 교반,하고 주파수가 25-40khz인 조건에서 초음파 처리를 수행합니다.

(4) 초음파 처리 후, 이산화망간과 물의 혼합 용액을 꺼냅니다, 여과 후, 이산화망간 건조 완료.

본 발명은 초음파 처리 방법을 채택하고 초음파 캐비테이션을 사용하여 강한 충격,을 발생시켜 미세 입자 표면의 기체막과 액막,을 파괴하여 로션이 미세 입자 표면에 완전히 접촉할 수 있도록 합니다. 이산화망간과 이산화망간으로 들어가는 입자에 충격을 가. 기공 내부는 이산화망간 미립자의 표면과 미세 기공에서 분리되어 이산화망간 미립자의 표면과 내부를 세척하는 목적을 달성합니다.

3. 나노미터 이산화망간을 제조하는 제어 가능한 방법
mno2의 제조 방법은 주로 액상 공침법, 저온 고상법, 열분해법, 열수 합성법., 그 중 졸겔법., 액상 침전법, 단순, 신속, 완전하고 저비용, 반응의 특성을 가지고 있으나, 반응 과정에서 반응 생성물의 형태를 제어할 수 없고, 얻어지는 입자 크기가 크다,는 단점이 있다. .

cn201711140262.8은 도데실 암모니아 브로마이드(CTAB)를 계면활성제로 첨가하여 mno2를 제조하는 방법을 제안합니다.. CN201711140262.8의 기술 계획은 다음과 같습니다. 다음 단계:

1단계: 이산화망간 활물질의 제조: 0.1mol/l kmnO4 용액, 200mol에 계면활성제 첨가 0.2mol/l mn(ch3coo)2 용액 300mol을 2h, 이내에 적가 8시간 동안, 침전된 생성물을 탈이온수 및 에탄올로 세척하고 여과하고, 여액을 건조 및 분쇄하여 갈색-검정색 이산화망간 활성 물질을 수득한다.

단계 2: 이산화망간 전극 시트의 제조: 이산화망간 활성 물질, 전도성 카본 블랙 및 결합제 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE),을 n-메틸피롤리돈과 교반하여 플라스틱을 형성, 이산화망간 전극 시트를 눌러 칩에서 준비됩니다.

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