제조 방법은 산화물 분말의 비표면적에 영향을 미치는 주요 요소 중 하나입니다. 준비 방법이 다르면 분말 입자의 크기, 모양 및 다공성이 달라져 비표면적에 영향을 미칠 수 있습니다.
예를 들어, 졸겔법은 높은 비표면적, 균일한 입자 크기 및 미세한 크기를 갖는 산화물 분말을 제조할 수 있으며; 공침전법은 침전조건을 조절하여 분말의 비표면적을 최적화할 수 있다. 따라서 제조방법을 선택할 때에는 구체적인 적용요구사항에 따라 적절한 공정을 선택하는 것이 필요하다.
1) 졸겔법 : 특성 : 졸중합과 겔공정을 거쳐 고체전구체를 형성하고, 열처리를 거쳐 산화물 분말을 얻는다. 표면적 효과 비교: 높은 비표면적, 균일한 입자 크기, 미세한 산화물 분말을 제조할 수 있습니다. 졸의 농도, 겔의 조건, 열처리 온도를 조절하여 분말의 비표면적을 조절할 수 있다.
2) Co 침전법 : 특징 : 용액 내에 균일하게 분포된 성분을 화학량론적 비율에 따라 침전시켜 전구체를 얻은 후 소성 및 기타 처리를 거쳐 산화물 분말을 얻는다. 표면적 비교의 영향: 분산성이 좋고 비표면적이 높은 산화물 분말을 제조할 수 있습니다. 침전 조건(예: pH 값, 온도, 교반 속도 등)과 하소 온도 및 시간과 같은 매개변수를 제어하여 분말의 비표면적을 최적화할 수 있습니다.

3) 기계식 볼밀링 방식 : 특징 : 원료분말을 기계적 힘에 의해 보다 미세한 입자로 분쇄하는 것. 표면적 비교의 영향: 기계적 볼 밀링은 입자 크기를 줄일 수 있지만 입자 모양이 불규칙하고 표면 결함이 증가하여 특정 표면적의 정밀한 제어에 영향을 미치는 경우가 많습니다. 그러나 밀링 시간, 밀링 매체, 볼 대 재료 비율 등과 같은 볼 밀링 매개변수를 최적화함으로써 분말의 비표면적을 어느 정도 늘릴 수 있습니다.

4) 화학기상증착(CVD): 특성: 기체 전구체는 고온에서 화학 반응을 통해 기판에 증착되어 산화막 또는 분말을 형성합니다. 표면적 비교의 영향: CVD 방법은 고순도 및 고비표면적 산화물 분말 또는 필름을 제조할 수 있습니다. 침전 온도, 가스 유량, 반응 시간 등의 매개변수를 제어함으로써 분말의 비표면적을 정밀하게 조절할 수 있습니다. 5) 분무열분해 방식 : 특징 : 고온의 열분해로에 금속염용액 또는 졸을 분무방식으로 분무하여 용매를 급속히 증발시키고 열분해 반응을 일으켜 산화물 분말을 형성한다. 구형도가 높고 입자 크기 분포가 좁은 산화물 분말을 제조할 수 있습니다. 적용 상황: ​​비표면적이 크고 입자 크기 분포가 균일한 구형 산화물 분말을 제조하는 데 적합합니다.

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