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  • 14

    Nov

    플라즈마 구형화법: 세라믹 소재 및 내화성 금속을 중심으로 구형 분말 제조

    현대 산업과 기술의 급속한 발전으로 다양한 산업 분야에서 분말 소재에 대한 고성능 요구가 점점 더 높아지고 있습니다. 분말 소재는 불순물 함량이 극히 낮고, 입자 크기가 미세하며, 입자 크기 분포가 좁을 뿐만 아니라, 특정 입자 형태를 가져야 합니다. 구형 분말은 표면 형태, 입자 크기 분포, 유동성 측면에서 우수한 성능을 보여 전자 부품, 항공우주, 3D 프린팅과 같은 첨단 산업에서 널리 사용되고 있습니다. 산업 분야에서는 분무법이 대형 구형 분말 생산에 널리 사용되고 공정 안정성이 높은 방법입니다. 그러나 고융점 세라믹 재료나 몰리브덴, 텅스텐과 같은 내화 금속의 경우, 공정 기술, 툴링 장비 등의 한계로 인해 분무법을 적용하기 어렵습니다. 초고온 및 고에너지 밀도라는 핵심 장점을 가진 플라즈마 구형화 ...
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  • 03

    Dec

    나노입자가 응집되고 분산되는 이유는 무엇입니까?

    나노입자는 왜 응집되는가? 1. 표면 자유 에너지 구동 메커니즘 나노입자는 더 큰 비표면적과 불포화 표면 원자를 가지므로 표면 자유 에너지가 증가합니다. 다중 입자 접촉은 전체 표면적을 감소시키고, 계면 에너지를 방출하여 시스템의 자유 에너지를 낮출 수 있습니다. 이러한 에너지 최소화 경향은 입자의 자발적 응집을 뒷받침하는 고유한 열역학적 원동력이며, 나노스케일에서 응집의 일반적인 원인입니다. 2. 정전기와 전기이중층 불안정성 하전된 입자에 의해 형성된 전기 이중층은 정전기적 반발력에 의한 안정적인 분산 상태를 제공할 수 있습니다. pH가 등전점에 접근하거나 이온 강도가 증가하면 이중층이 압축되고 반발력이 감소하며, 입자 간의 인력이 우세해져 응집이 발생합니다. 이러한 전위 장벽의 안정성은 시스템의 응집 방...
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  • 16

    Dec

    X선 회절(XRD)을 이용해 5wt% 미만의 상을 검출하기 어려운 이유는 무엇일까요?

    X선 회절(XRD)은 상을 분석하는 중요한 방법입니다. 엄밀히 말하면, 특정 상의 존재 여부만 판별할 수 있고 부재 여부는 판별할 수 없기 때문에, X선 회절 분석의 진위 여부를 구별하는 데 더 용이합니다. 그렇다면 검출 한계는 얼마일까요? 첫째로, 우리는 다음 사항을 강조해야 합니다. XRD 분석 원소 함량 측정은 매우 부정확합니다. 검출 한계가 주로 무엇에 의해 결정되는지를 굳이 말하자면, 기기의 출력과 관전류에 의해 결정됩니다. 원소 함량을 정확하게 분석하려면 화학적 방법이나 원자 흡수 분광법을 사용하는 것이 가장 좋습니다. 또한, XRD의 검출 한계는 단순히 %로 표현할 수 없는데, 이는 검출 대상 물질의 분산도, 즉 결정성 및 물질의 종류와 밀접한 관련이 있기 때문입니다. 시료의 질량 흡수 계수가 ...
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