그래핀 양자점(GQD)은 그래핀 층 크기가 100nm 미만이고 층 수가 10개 미만인 새로운 유형의 탄소 기반 형광 물질을 말합니다. 일반적으로 그래핀 양자점에는 많은 종류의 탄소 형광 물질과 그래핀 양자점, 산화 그래핀 양자점, 부분적으로 환원된 산화 그래핀 양자점을 포함하여 유사한 구조와 특성을 가진 파생물입니다. 그래핀 양자점의 특성 그래핀 양자점의 UV 흡수 성능 그래핀 양자점의 C=C 이중 결합 구조로 인해 π - π 전이가 발생하여 짧은 파장 범위에서 많은 수의 광자를 흡수할 수 있습니다. 일반적으로 UV 흡수 스펙트럼의 260~320nm 범위에서 강한 흡수 피크가 나타나고 가시광선 범위까지 확장되는 테일링이 동반됩니다. 한편, n - π 전이 의 영향으로 인해 그래핀 양자점은 270~390n...
더 읽어보기
알루미나 분말 의 표면 개질 방법은 무엇입니까 ? 일반적인 재료인 산화알루미늄은 세라믹, 코팅, 촉매 등의 생산에 흔히 사용됩니다. 그러나 복합 재료 충전이나 고성능 촉매 제조와 같은 일부 응용 분야에서는 성능 향상을 위해 알루미나의 표면 개질이 필요합니다. 그리고 안정성. 이 기사에서는 알루미나의 표면 개질 방법에 대해 설명합니다. 표면 개질은 특정 물질(개질제)을 다른 물질(개질되는 물질)의 표면에 도입하여 재료의 특성과 기능을 향상시키는 과정입니다. 알루미나의 표면 개질 공정에는 화학적 처리, 증착 등의 방법이 일반적으로 사용되며, 그 중 실란 커플링제(KH-560)에 의한 알루미나의 개질이 가장 일반적이다. 실란 커플링제(KH-560)는 우수한 표면 친화성과 반응성을 지닌 다목적 유기 규소 화합물입니...
더 읽어보기
초미세 탄화규소 분말은 높은 화학적 불활성, 고경도, 고융점 등 우수한 특성을 지닌 우수한 무기재료로 제조업에서 널리 사용되고 있습니다. 그러나 표면 활성이 낮기 때문에 특정 산업 응용 시나리오에서는 우수한 성능을 달성하기가 어렵습니다. 따라서 초미립 탄화규소 분말의 표면 개질 방법에 대한 연구는 매우 중요하다. 이 기사에서는 초미세 탄화규소 분말의 두 가지 표면 개질 방법을 소개하고 개질된 분말을 테스트하고 특성화합니다. 첫째, 고분자 전해질을 통한 개질 방법이 소개된다. 이 방법은 양이온 고분자 전해질 폴리디메틸암모늄 클로라이드(PDADMAC) 또는 음이온 고분자 전해질 나트륨 폴리스티렌 설포네이트(PSS)를 사용하여 초미세 탄화규소 분말을 개질합니다. 구체적인 공정은 탈이온수에서 SiC 분말과 함께 P...
더 읽어보기
알루미늄 분말은 일반적으로 사용되는 필러로 열 인터페이스 재료 및 산업용 코팅과 같은 분야에서 널리 사용됩니다. 그러나 기존의 알루미늄 분말은 점도가 높고 분산성이 낮으며 열 안정성이 좋지 않아 일부 특수 용도에서는 효율성이 제한되는 문제가 있습니다. 이러한 문제를 해결하기 위해 연구자들은 알루미늄 분말의 성능을 향상시키기 위한 많은 수정 방법을 수행했습니다. 알루미늄 분말의 표면 개질을 위한 비교적 효과적인 방법은 화학적 개질을 위해 실란 커플링제를 사용하는 것입니다. 예를 들어, 헥사데실트리메톡시실란, 도데실트리메톡시실란, 데실트리메톡시실란 및 옥틸트리메톡시실란은 모두 알루미늄 분말용 개질제로 사용될 수 있습니다. 이러한 개질제는 알루미늄 분말과 유기 매트릭스 사이의 상용성을 향상시키고 분산성과 열 안정...
더 읽어보기
13929258449
온라인 서비스
13929258449
admin@satnano.com
led_zhiding
+ 8613929258449
